NX-5000 DUAL-FIB/SEM with EDS/EBSD

Nœud :

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Fabricant et modèle : Hitachi NX-5000 (Ethos)

Site web externe : MEMRG

Personne ressource : Stéphanie Bessette

Fait partie du RQMÉM : oui

Résolution :

MEB : 1,5 nm à 1 kV, 0.7 nm à 15 kV

FIB : 4 nm à 30 kV, 60 nm à 2 kV

Détecteurs, caméras et spectromètres :

  • Électrons secondaires et électrons rétrodiffusés dans l’objectif (SE(U), (BSE(U), BSE(L)

  • Électrons secondaires dans la chambre (SE(L))

Caractéristiques :

  • Colonne MEB à émission à froid (Cold-field emission)

  • Source ionique de gallium liquide

  • Système cryo Quorum (PP3010T)

  • Courant de la sonde : 5 pA-10nA, maximum 100 nA en FIB

  • Voltage d’accélération : de 0.1 à 30 kV

  • Canon à ions Ar+ avec une énergie inférieure à 2 keV

Applications :

Imagerie nanométrique, production de lamelles pour MÉT, reconstruction 3D de la microstructure de matériaux, préparation de matériaux souples, finition de surfaces

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