Nœud :
Université McGill – McGill Electron Microscopy Research Group
Fabricant et modèle : Flat ion milling Hitachi IM-3000
Site web externe : McGill
Personnes ressource : Nicolas Brodusch; Stéphanie Bessette; Lise Guichaoua
Fait partie du RQMÉM : non
Adresse : Pavillon M.H. Wong, 3610, rue University, Montréal, QC H3A 0C5
Système de fraisage à faisceau ionique large utilisé pour la préparation d’échantillons en microscopie électronique à balayage (MEB). Il élimine les fines rayures et les dommages superficiels sur les échantillons pré-polis sans exercer de contrainte mécanique.
Caractéristiques :
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Faisceau d’argon de 1 à 6 keV pour une implantation d’ions limitée et taux de pulvérisation élevé.
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Produit des surfaces lisses et planes dont la rugosité est généralement inférieure à 0,2 nm Ra.
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L’inclinaison variable du faisceau permet d’atteindre les surfaces difficiles à atteindre. L’angle est ajustable de 0 à 88 degrés.
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Vitesses d’accélération élevées pour un enlèvement rapide de matière, tout en minimisant les dommages thermiques.
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Imagerie in-situ pour le suivi en temps réel.
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La tension de courant du faisceau peut aller de 50 à 100 µA, en fonction de la tension d’accélération.
Applications :
Pour la fraisage à plat d’échantillon pré-polis. Idéal pour les métaux et alliages avant ECCI ou EBSD. Ce système peut convenir à plusieurs types de matériaux, incluant les métaux, les semi-conducteurs, les céramiques et les matériaux isolants. Pour une préparation de la surface simple et efficace.